国家规范GBT 44935-2024《纳米技能 二硫化钼薄片的层数丈量 拉曼光谱法》正式对外发布

时间: 2025-02-16 16:02:52 |   作者: 矿用分选

  国家规范GB/T 44935-2024《纳米技能 二硫化钼薄片的层数丈量 拉曼光谱法》正式发布

  2024年12月31日，国家商场监督办理总局（国家规范化办理委员会）发布2024年第32号中华人民共和国国家规范公告，同意由我国科学院半导体研究所牵头起草的国家规范GB/T 44935-2024 《纳米技能 二硫化钼薄片的层数丈量 拉曼光谱法》正式发布，并将于2025年7月1日起施行。

  作为二维层状资料的代表之一，二硫化钼（以下简写为“MoS2”）薄片以其优异的电学、光学、力学、热学等功能，已成为新一代高功能纳米光电子器材和后硅基半导体年代连续摩尔定律的候选资料之一。MoS2薄片的层数对其光学和电学等功能有显着的影响。例如，单层MoS2为直接带隙，具有十分显着的发光功率，在光电探测器、光电二极管等光电范畴中有着杰出的使用远景，但多层MoS2的直接带隙随层数添加而逐步减小；相关于单层MoS2而言，多层 MoS2的载流子迁移率和电流密度随层数进步，在场效应晶体管等电子器材中具有更显着的使用优势。所以，快速表征MoS2薄片的层数关于其出产制备和相关这类的产品开发具有重要的指导意义，也是深入研究MoS2薄片的物理和化学性质的根底和其开发使用的中心。

  拉曼光谱作为一种快速、无损和高灵敏度的光谱表征办法，已被广泛地使用于二维层状资料，如石墨烯薄片、MoS2薄片等资料的层数丈量。将拉曼光谱法用于10层以内石墨烯薄片层数丈量国家规范GB/T 40069-2021《纳米技能 石墨烯相关二维资料的层数丈量 拉曼光谱法》也是由我国科学院半导体研究所牵头起草，已于2021年12月1日起施行并得到遍及的使用和认可。但石墨烯相关二维资料层数丈量的拉曼光谱法并不能都推行到二硫化钼薄片的层数丈量，因而就需要针对二硫化钼薄片拉曼光谱的共同特征，拟定使用拉曼光谱丈量二硫化钼薄片层数的相应国家规范。

  在前期展开使用拉曼光谱表征二硫化钼薄片层数的系统研究根底上，我国科学院半导体研究所牵头起草了国家规范GB/T 44935-2024 《纳米技能二硫化钼薄片的层数丈量拉曼光谱法》。该国家规范供给了丈量MoS2薄片层数的独立且可相应验证的三种拉曼光谱法，包含根据剪切模和层间呼吸模的峰位（A法）、根据E2g1模和A1g模的峰位差（B法）和根据氧化硅片衬底的硅拉曼模峰高（C法），相应原理如图1所示。该国家规范适用于面内尺度大于或等于2 µm的2H堆垛的本征MoS2薄片的层数丈量，规则了使用拉曼光谱法丈量MoS2薄片层数时的样品制备、仪器参数要求、表征过程、层数断定等内容，并列出根据该规范规则的办法丈量MoS2薄片层数的实例。表1给出了使用拉曼光谱丈量MoS2薄片层数的三种办法的相关信息一览表。在丈量MoS2薄片的层数时，能够再一次进行挑选一种或多种适宜的表征办法对所测MoS2薄片的层数做归纳断定。

  图1 使用拉曼光谱丈量二硫化钼薄片层数三种办法的原理图：(左) A法，剪切模和层间呼吸模的峰位；(中) B法，E2g1模和A1g模的峰位差；(右) C法，氧化硅片衬底的硅拉曼模峰高。

  该国家规范的拟定，为使用拉曼光谱法对机械剥离办法制备的MoS2薄片进行层数丈量供给科学牢靠的根据以及规范的实验办法，促进了拉曼光谱在纳米技能范畴及二维资料工业中的推行使用，有助于进步MoS2薄片资料的质量操控水平，促进其在相关范畴的使用和开展。

  该国家规范由TC279（全国纳米技能规范化技能委员会）归口 ，主管部门为我国科学院。首要起草单位为我国科学院半导体研究所、河北大学、泰州巨纳新动力有限公司、东南大学、厦门凯纳石墨烯技能股份有限公司、堀场（我国）交易有限公司、我国科学院物理研究所、天津大学、国家纳米科学中心，首要起草人为谭平恒、刘雪璐、林妙玲、李晓莉、丁荣、章琦、倪振华、黄卫明、沈婧、杨洋、何清、高尚、邵悦。